書誌事項
- タイトル別名
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- Structure and Photocurrent Density of Electroless Plated Nickel/TiO2 Composite Films
- 無電解Ni-P/TiO2複合めっき膜の構造と光電流密度
- ムデンカイ Ni P TiO2 フクゴウメッキ マク ノ コウゾウ ト コウデンリュウ ミツド
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抄録
Electroless Plated Ni-P/TiO2 composite films were deposited from an acidic solution or an alkaline solution containing photocatalytic TiO2 particles (P-25). The dispersion of particles in the films was investigated by cross-sectional observation with a transmission electron microscope. The particle content in the films increased with an increase of its amount in the solutions. The deposition rate of composite films was independent of the amount of TiO2 particles in the solutions(0˜100g dm−3). Photocurrent density of the films in 0.1M NaOH aqueous solution rose with particle content in the films.<br>
収録刊行物
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- 表面技術
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表面技術 55 (5), 355-359, 2004
一般社団法人 表面技術協会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001204119397632
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- NII論文ID
- 10012931588
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- NII書誌ID
- AN1005202X
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- COI
- 1:CAS:528:DC%2BD2cXlsFGjsr0%3D
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- ISSN
- 18843409
- 09151869
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- NDL書誌ID
- 6965611
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可