原子間力顕微鏡を用いた微細レジストドットパターンの疲労解析

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タイトル別名
  • Fatigue Analysis of Micro Resist Pattern Analyzed by the Direct Collapse Method with Atomic Force Microscope
  • ゲンシカンリョク ケンビキョウ オ モチイタ ビサイ レジストドットパターン ノ ヒロウ カイセキ

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抄録

原子間力顕微鏡(AFM)の探針から微細レジストパターンに荷重を加えて破壊することで,パターンの破壊荷重を定量測定できる。直径が160nmであり,高さが593nmであるドット形状パターンに.一定荷重を繰り返し加えることで疲労破壊を引き起こした。疲労がない場合のパターンの破壊荷重は約90nNであった。しかしながら,疲労を加えた場合は,1.,3nN-f53.1nNの低荷重でもパターン破壊が生じた。荷重を105nNまで増加させた場合,顕著に破壊が生じた。本手法により,パターン内部に蓄横される疲労を評価できることを確認した。

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参考文献 (11)*注記

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