書誌事項
- タイトル別名
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- Development of Semiconductor Exhaust Gas Decomposition for Fluorine Recycle System
説明
半導体製造プロセスにおける排ガスからのフッ素リサイクルシステムを考案した.これはPFC(パープルオロコンパウンド)分解部とフッ素固定化部にわかれており,PFC分解方式として電気加熱技術を用いた.排ガスの成分をNF3とSiH4と設定し,実機の設計に必要な分解特性をラボスケールにて評価した.得られたそれぞれの分解率から見かけの反応速度を算出し,実機に必要な分解炉の体積を導出した.導出した体積から実証試験機を製作し実プロセスの流量を処理した結果,NF3は650˚Cで,SiH4は600˚Cで99.997%以上分解できることを確認した.
収録刊行物
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- 化学工学論文集
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化学工学論文集 39 (5), 452-457, 2013
公益社団法人 化学工学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001204512760320
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- NII論文ID
- 130004463929
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- ISSN
- 13499203
- 0386216X
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- Crossref
- CiNii Articles
- OpenAIRE
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可