書誌事項
- タイトル別名
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- Removal of Negative-tone Novolak Chemical Amplification Resist by Chemicals
- ヨウザイ ニ ヨル カガク ゾウフク ネガガタ ノボラックレジスト ノ ジョキョ
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抄録
炭酸エチレン（Ethylene Carbonate: EC），炭酸プロピレン（Propylene Carbonate: PC）による化学増幅ネガ型ノボラックレジストの除去性を検討した．ネガ型レジストを用いることにより，ポジ型レジストでは困難なレジスト除去時間（レジスト除去速度）を定量的に求めることが可能であることを明らかにした．露光量の増加につれレジストが架橋するため，EC，PCとも除去速度は遅くなった．溶剤温度が同じとき，ECの除去速度はPCのそれに比較し速かった．ECの分子サイズがPCのそれに比較し小さいので，レジストに侵入しやすく溶解させやすいためと考えられる．アレニウス則をEC，PCによるレジスト除去反応に適用することにより，露光量が高いほど，また溶剤の分子サイズが大きいほど，活性化エネルギーが高いことが判明した．
収録刊行物
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- 化学工学論文集
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化学工学論文集 36 (6), 589-593, 2010
公益社団法人 化学工学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001204513224960
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- NII論文ID
- 10027619524
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- NII書誌ID
- AN00037234
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- ISSN
- 13499203
- 0386216X
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- NDL書誌ID
- 10946785
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可