Negative-ion production for materials science and low charging mechanisms in negative-ion implantation

DOI
  • ISHIKAWA Junzo
    Department of Electronic Science and Engineering, Faculty of Engineering, Kyoto University

Bibliographic Information

Other Title
  • 物性応用のための負イオンの生成と低帯電負イオン注入技術

Abstract

負イオンを用いた新しい材料プロセスが注目されるようになったのは,負イオンが正イオンと異なる属性をもつからである.電子親和力が小さく粒子衝突に弱い負イオンは,発想を転換して,金属のフェルミ準位と原子の電子親和力準位間の電子の移動を積極的に利用した表面効果法を最適化することにより,高効率で負重イオンを発生させることができる.負イオンの電荷が負の極性を持つことから,絶縁された電極や絶縁物への注入において,表面からの二次電子放出による負の電荷放出とのバランスがとれやすく,その表面帯電電位が数V程度に収まる特長が生じる.

Journal

  • Oyo Buturi

    Oyo Buturi 65 (6), 587-593, 1996

    The Japan Society of Applied Physics

Keywords

Details 詳細情報について

  • CRID
    1390001204597734912
  • NII Article ID
    130003593585
  • DOI
    10.11470/oubutsu1932.65.587
  • COI
    1:CAS:528:DyaK28XjvVyjt7Y%3D
  • ISSN
    21882290
    03698009
  • Data Source
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • Abstract License Flag
    Disallowed

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