Some Properties of a-Si<sub><i>x</i></sub>C<sub>1-<i>x</i></sub>: H Alloys Prepared by Reactive Sputtering

Bibliographic Information

Other Title
  • 反応性スパッタリング法によるa-Si<sub><i>x</i></sub>C<sub>1-<i>x</i></sub>: H “混非晶”の作成といくつかの性質
  • 反応性スパッタリング法によるa-SixC1-x:H"混非晶"の作成といくつかの性質
  • ハンノウセイ スパッタリングホウ ニヨル a SixC1 x H コンヒショウ

Search this article

Abstract

記事分類: 物理学--分子・物性

Journal

  • Oyo Buturi

    Oyo Buturi 48 (12), 1200-1204, 1979

    The Japan Society of Applied Physics

Details 詳細情報について

Report a problem

Back to top