Development of Evaluation Method for Geometrical Characterization of Polishing Pad Surface Texture Based on Contact Image Analysis Using Image Rotation Prism
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- UNEDA Michio
- 金沢工業大学
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- OKABE Kenji
- 金沢工業大学大学院
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- MORIYA Norihiko
- 不二越機械工業株式会社
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- SHIBUYA Kazutaka
- 不二越機械工業株式会社
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- ISHIKAWA Ken-ichi
- 金沢工業大学
Bibliographic Information
- Other Title
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- ダブプリズムを用いた接触画像解析に基づくポリシングパッド表面性状の定量評価手法の開発に関する研究
- ダブプリズムを用いた接触画像解析に基づくポリシングパッド表面性状の定量評価手法の開発に関する研究--ドレッサ粒度がパッド表面性状に及ぼす影響
- ダブプリズム オ モチイタ セッショク ガゾウ カイセキ ニ モトズク ポリシングパッド ヒョウメン セイジョウ ノ テイリョウ ヒョウカ シュホウ ノ カイハツ ニ カンスル ケンキュウ ドレッサ リュウド ガ パッド ヒョウメン セイジョウ ニ オヨボス エイキョウ
- —ドレッサ粒度がパッド表面性状に及ぼす影響—
- —Effect of Mesh Size of Dresser Grains on Polishing Pad Surface Texture—
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Abstract
Polishing is generally used in fabricating high-quality silicon wafers. Polishing efficiency and accuracy depend not only on the pad surface texture but also the actual conditions of contact between the wafer and the pad. Furthermore, the pad surface texture is affected by the dressing conditions. Currently, no effective quantitative methods or parameters for pad surface evaluation have been established. In this study, we propose a technique based on contact image analysis using an image rotation prism. We also discuss the effect of dressing conditions on the following parameters : (1) contact ratio, (2) number of contact points, (3) spacing of contact points and (4) spatial FFT results of a contact image. These parameters were found to be effective for evaluating pad surface texture.
Journal
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- Journal of the Japan Society for Precision Engineering
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Journal of the Japan Society for Precision Engineering 76 (11), 1276-1282, 2010
The Japan Society for Precision Engineering
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Keywords
Details 詳細情報について
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- CRID
- 1390001204797967872
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- NII Article ID
- 130000660577
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- NII Book ID
- AN1003250X
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- ISSN
- 1882675X
- 09120289
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- NDL BIB ID
- 10897528
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- Text Lang
- ja
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- Data Source
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- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles
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- Abstract License Flag
- Disallowed