CVD法によるY<sub>2</sub>O<sub>3</sub>, ZrO<sub>2</sub>及び安定化ZrO<sub>2</sub>薄膜の合成
書誌事項
- タイトル別名
-
- Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>, ZrO<sub>2</sub> and Stabilized ZrO<sub>2</sub> Films Prepared by Chemical Vapor Deposition
- CVDホウ ニヨル Y2O3 ZrO2 オヨビ アンテイカ ZrO2 ハクマク
この論文をさがす
説明
記事分類: 化学・化学工業--無機化学・無機化学工業--非金属元素・非金属化合物--セラミックス
収録刊行物
-
- 窯業協會誌
-
窯業協會誌 90 (1037), 54-55, 1982
公益社団法人 日本セラミックス協会
- Tweet
詳細情報 詳細情報について
-
- CRID
- 1390001205217344256
-
- NII論文ID
- 110002316406
-
- NII書誌ID
- AN00245650
-
- ISSN
- 18842127
- 00090255
-
- NDL書誌ID
- 2437775
-
- 本文言語コード
- ja
-
- データソース種別
-
- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles