書誌事項
- タイトル別名
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- A New Edge Position Detection Approach in SEM Images of LSI Fine Patterns
- LSI ビサイ ハイセン パターン ノ コウセイド ナ エッジ ラフネス ケンシュツ シュホウ
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抄録
This paper describes a new approach for the detecting pattern edge positions and roughness of LSI ultra-fine patterns. As LSI pattern lines become narrower, exact estimation of line edge roughness and line width roughness as well as edge positions, becomes indispensable. The proposed approach comprises the function approximation of cross-sectional signals at each edge in a SEM image and the automatic determination of the optimum edge detection region used in the function approximation. The approach enables us to detect edge positions and roughness with high accuracy and high reproducibility.
収録刊行物
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- 精密工学会誌論文集
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精密工学会誌論文集 72 (5), 612-618, 2006
公益社団法人 精密工学会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001205281673088
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- NII論文ID
- 110004717810
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- NII書誌ID
- AA11966630
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- ISSN
- 18818722
- 13488716
- 13488724
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- NDL書誌ID
- 7953227
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可