LSI微細配線パターンの高精度なエッジラフネス検出手法

DOI Web Site 参考文献7件

書誌事項

タイトル別名
  • A New Edge Position Detection Approach in SEM Images of LSI Fine Patterns
  • LSI ビサイ ハイセン パターン ノ コウセイド ナ エッジ ラフネス ケンシュツ シュホウ

この論文をさがす

説明

This paper describes a new approach for the detecting pattern edge positions and roughness of LSI ultra-fine patterns. As LSI pattern lines become narrower, exact estimation of line edge roughness and line width roughness as well as edge positions, becomes indispensable. The proposed approach comprises the function approximation of cross-sectional signals at each edge in a SEM image and the automatic determination of the optimum edge detection region used in the function approximation. The approach enables us to detect edge positions and roughness with high accuracy and high reproducibility.

収録刊行物

参考文献 (7)*注記

もっと見る

キーワード

詳細情報 詳細情報について

問題の指摘

ページトップへ