自己組織化ハニカムマスクを用いたバイオミメティック表面を有するシリコン基板の作製
書誌事項
- タイトル別名
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- Preparation of biomimetic silicon surfaces using self-organized porous polymer films as novel dry etching masks
説明
生物は、蓮の葉の撥水性や蛾の目の無反射表面等に代表されるような機能的な表面をもつ。これらの表面はナノからマイクロメートルに至る階層的な構造を特徴としている。生物が有する微細な階層構造を模倣した次世代バイオミメティクス材料が世界的に注目されている。高分子の湿式製膜過程における結露現象を利用して自己組織化的に作製されるハニカム状多孔質高分子フィルムをマスクとしてシリコンのドライエッチングをすると、撥水性と無反射性を併せ持つ階層的な突起構造が形成されることを見いだした。
収録刊行物
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- エレクトロニクス実装学術講演大会講演論文集
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エレクトロニクス実装学術講演大会講演論文集 24 (0), 206-207, 2010
一般社団法人エレクトロニクス実装学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001205555645952
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- NII論文ID
- 130005469615
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可
