Electrostatic chuck composed of TiO2 doped Al2O3 ceramics

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  • 酸化チタン添加アルミナセラミックス製静電チャック

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ＬＳＩおよびフラットパネルディスプレー（ＦＰＤ）のプロセスやアセンブリ分野では真空チャンバー内でシリコンウェハやガラス基板を電気的に吸着固定することができる静電チャックの利用が促進されている。静電チャックに要求される機能は、シリコンウェハやガラス基板を強い力吸着できることの他、用途によっては精密な寸法精度（平面度）や温度負荷（熱通過）、腐食環境下での耐性などが要求される。弊社ではこれらの要求品質をバランスよく満足するセラミック製静電チャックを開発してきた。本セッションでは静電チャックの機能とそれを発揮させるためのマテリアルデザインでについて説明する。

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Details 詳細情報について

  • CRID
    1390001205612367488
  • NII Article ID
    130006968337
  • DOI
    10.14853/pcersj.2004f.0.87.0
  • Data Source
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • Abstract License Flag
    Disallowed

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