溶液法による酸化亜鉛薄膜の作製

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タイトル別名
  • A low-temperature synthesis of ZnO thin films

抄録

酸化亜鉛は代表的なワイドギャップ半導体であり、透明導電膜や蛍光発光体として近年注目を集めている。とくに溶液法での合成は高温を必要とする通常のセラミックス合成プロセスとは異なり、低温で酸化亜鉛の直接合成が可能である。本研究では、低温での酸化亜鉛薄膜の合成を目的に、溶液法を用いた薄膜作製を行った。原料溶液のpHおよび原料組成の調整によって種々の形態の粒子が形成された。作製条件によっては、水酸化亜鉛や中間体の形成も確認された。低温での酸化亜鉛粒子の溶液法での作製方法を確立するとともに、前駆体溶液を利用することによって低温での薄膜作製条件を明らかにした。

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  • CRID
    1390001205615908864
  • NII論文ID
    130006973010
  • DOI
    10.14853/pcersj.2007s.0.536.0
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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