RFマグネトロンスパッタ法によるSiC-TiCコンポジット膜の作製

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タイトル別名
  • Preparation of SiC-TiC composite films by RF magnetron sputtering

抄録

近年、工具材料として多様に用いられているWの価格高騰にともない、優れた硬質コーティング材料の開発が求められている。その中でも、PVD法を用いた多元系セラミックス薄膜の研究が注目されている。これまでに、多元系セラミックス薄膜は、その超微細構造から、優れた特性を示すことが報告されている。SiCの高硬度、耐食性、TiCの高硬度、高温強度などそれぞれの優れた特性に加え、バルクSiC-TiC系では、その作製条件によってこれまでに三元化合物相や、微細なラメラ組織などを形成することが報告されており、膜の形でもさまざまな組織、優れた特性を示す可能性が示唆される。本研究では、SiC-TiC複合ターゲットを用いて、RFマグネトロンスパッタ法によりSiC-TiCコンポジット膜を作製し、製膜条件と得られた膜の結晶相および微細構造との関係を調べた。

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  • CRID
    1390001205618891520
  • NII論文ID
    130006977669
  • DOI
    10.14853/pcersj.2008f.0.796.0
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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