RFマグネトロンスパッタ法によるSiC-TiCコンポジット膜の作製
書誌事項
- タイトル別名
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- Preparation of SiC-TiC composite films by RF magnetron sputtering
抄録
近年、工具材料として多様に用いられているWの価格高騰にともない、優れた硬質コーティング材料の開発が求められている。その中でも、PVD法を用いた多元系セラミックス薄膜の研究が注目されている。これまでに、多元系セラミックス薄膜は、その超微細構造から、優れた特性を示すことが報告されている。SiCの高硬度、耐食性、TiCの高硬度、高温強度などそれぞれの優れた特性に加え、バルクSiC-TiC系では、その作製条件によってこれまでに三元化合物相や、微細なラメラ組織などを形成することが報告されており、膜の形でもさまざまな組織、優れた特性を示す可能性が示唆される。本研究では、SiC-TiC複合ターゲットを用いて、RFマグネトロンスパッタ法によりSiC-TiCコンポジット膜を作製し、製膜条件と得られた膜の結晶相および微細構造との関係を調べた。
収録刊行物
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- 日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
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日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集 2008F (0), 796-796, 2008
公益社団法人 日本セラミックス協会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001205618891520
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- NII論文ID
- 130006977669
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可