厚膜フォトレジストおよびNiメッキ構造体の超精密切削による表面仕上げ

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タイトル別名
  • Surface Finish of Thick Photo Resist and Nickel Electroplating Structure by Ultra-precision Cutting
  • E.D.C.の構造設計への応用-1・2-
  • E.D.C. ノ コウゾウ セッケイ エ ノ オウヨウ 1 2

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抄録

本研究は,超精密切削加工機を用いて単結晶ダイヤモンド工具により,ベーク後あるいは露光後の厚膜フォトレジスト層ならびにNiメッキを施した構造体を直接切削することにより,表面粗さおよび平面度の高い表面層を得ようとするものである.レジスト–Niメッキ構造体表面の超精密切削表面の粗さ,性状等を評価し,多層に重ね合わせたリソグラフィプロセスの可能性を示す.

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