Ｘ線回折顕微法によるEUVマスク像再生アルゴリズムの検討
書誌事項
- タイトル別名
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- Consideration of image reconstructing algorithm for EUV mask inspection, based on the X-ray diffraction imageing method
説明
我々はEUVマスク欠陥検査を目的として、Ｘ線回折顕微法の原理に基づくCoherent EUV Scaterometrory Microscope （CSM）を開発している。CSMは結像光学系を用いず、波長13.5 nmのコヒーレント光をマスクに直接照射して得られた散乱光をCCDで記録する。画像処理により20 nm相当のマスクを評価する。本研究では画像処理に用いられる位相回復アルゴリズムについて検討した。
収録刊行物
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- 精密工学会学術講演会講演論文集
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精密工学会学術講演会講演論文集 2010A (0), 429-430, 2010
公益社団法人 精密工学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001205653288064
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- NII論文ID
- 130005030162
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可
