大気圧プラズマによるチャネルカット単結晶シリコンの内壁エッチングの検討

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硬X線用モノクロメータとして,その簡便さの為,チャネルカット結晶が多く使用されている.しかし内壁部表面近傍には,結晶学的なダメージが多く存在し,表面荒さも一般的な研磨表面には遠く及ばない.X線自由電子レーザー等,可干渉性の高い光源への適用の際,そのようなダメージは光源性能を劣化させる要因となり得る.我々は大気圧プラズマを用い,内壁表面のエッチングを試みた.本発表では基礎検討の結果を報告する.

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  • CRID
    1390001205654655872
  • NII Article ID
    130004661350
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2013a.0.653.0
  • Text Lang
    ja
  • Data Source
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • Abstract License Flag
    Disallowed

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