革新的CMP/P-CVM融合加工装置の設計・試作（第5報）

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  • B-Type装置による各種難加工材料の基本的加工特性とその評価

抄録

我々は、設計・試作した革新的CMP/P-CVM融合加工装置(B-Type)を用いて、難加工材料に対する高能率加工を展開している。炭化ケイ素基板に対してCMP/P-CVM融合加工した結果、CMP(Chemical Mechanical Polishing)、あるいはP-CVM(Plasma Chemical Vaporization Machining)の単独加工と比較して、加工レートの上昇、および表面粗さの改善が可能となり、CMPとP-CVM融合によるシナジー効果を確認した。加えて当該技術を適用して、超難加工材料である単結晶ダイヤモンド基板を加工した結果についても併せて報告する。

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390001205657752960
  • NII論文ID
    130005479225
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2014a.0_17
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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