表面吸着活性種の輸送を用いたドライ平坦化法の開発

DOI
  • 両粂 玲志
    大阪大　工学研究科　精密科学・応用物理学専攻
  • 宮崎 俊亘
    大阪大　工学研究科　精密科学・応用物理学専攻
  • 佐野 泰久
    大阪大　工学研究科　精密科学・応用物理学専攻
  • 松山 智至
    大阪大　工学研究科　精密科学・応用物理学専攻
  • 山内 和人
    大阪大　工学研究科　精密科学・応用物理学専攻

書誌事項

タイトル別名
  • The development of the dry planarization method with a reference plane by the transportation of active species

抄録

SiCやダイヤモンドなどはその優れた物性から次世代半導体基板材料として注目されているが，これらは高硬度かつ化学的に安定なため，原子レベルの表面平坦化は困難である．そこで我々はドライエッチングに転写面を付加した研磨法を考案した．本手法では，大気圧プラズマで生じた反応種を，触媒をめっきした回転定盤上に吸着し，試料表面に輸送することで平坦化を行う．本発表では，本手法の概念および基礎実験結果について報告する．

収録刊行物

キーワード

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390001205659701760
  • NII論文ID
    130006043915
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2017s.0_541
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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