ICP支援DCマグネトロン放電におけるターゲット近傍での気体温度空間分布の半導体レーザー吸収分光計測
書誌事項
- タイトル別名
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- Measurement of spatial gas temperature profile near the target during inductively coupled plasma-assisted DC magnetron discharge using diode laser absorption spectroscopy
抄録
ICP支援DCマグネトロンスパッタリングでは動作Arガスの加熱による成膜プロセスへの影響が無視できないことが分かっている.本研究では,ICP支援DCマグネトロン放電におけるターゲット近傍Arガス温度の把握を目的として,Littrow型ECDLを用いた吸収分光法によりスパッタ成膜中Ar原子の速度分布関数を計測し,Arガス温度の調査を行った.ICP単独動作時においては空間的に一様な温度となった.また,ターゲットから距離20mmの場所で,ICP支援マグネトロン動作時がICP単独動作時に比べて約30~60K高くなった.気体温度と動作圧力は双関係があり,動作圧力が高くなると気体温度もそれに比例して高くなる.
収録刊行物
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- 電気関係学会九州支部連合大会講演論文集
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電気関係学会九州支部連合大会講演論文集 2014 (0), 20-20, 2014
電気・情報関係学会九州支部連合大会委員会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001205663953024
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- NII論文ID
- 130005487698
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可