反応性スパッタリング法によるTiO2/TaON/Cu2O薄膜の光触媒に対するTaON層の効果

DOI
  • 相馬 俊也
    工学院大学大学院　工学研究科　電気・電子工学専攻
  • 鷹野 一朗
    工学院大学　工学部　電気システム工学科

書誌事項

タイトル別名
  • Effect of the TaON layer on photocatalyst of the TiO2/TaON/Cu2O film by the reactive magnetron sputtering

抄録

近年環境汚染の解決策として光触媒の研究が盛んに行われている。中でも酸化チタンにおいては高い光触媒効果が確認されており、また、酸化銅を下層に挿入することにより可視光反応領域の拡大も本研究室では確認されている。更なる機能向上としてアナターゼ型酸化チタンと結晶構造、電子配置が同じであるTaON薄膜を中間層に挿入することにより光触媒や、光学特性にどのような影響を及ぼすか調査した。

収録刊行物

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390001205677800960
  • NII論文ID
    130005489142
  • DOI
    10.14886/sssj2008.35.0_116
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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