ITO thin film formation on flexible plastic films by RF magnetron sputtering
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- Kamada Yuya
- Graduate School of Engineering, Osaka City University
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- Maeda Takuya
- Graduate School of Engineering, Osaka City University
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- Fukuda Tsuneo
- Graduate School of Engineering, Osaka City University
Bibliographic Information
- Other Title
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- RFマグネトロンスパッタリング法によるプラスチック基板へのITOの製膜
Description
フレキシブルエレクトロニクスに向けてプラスチック基板への電極材料の製膜は重要な要素技術である。本発表では、PEN（=Polyethylene naphthalate)基板上へのITO薄膜の製膜条件を最適化し、膜厚100 nmで<10-3 Ohm cmの低抵抗ITO薄膜を形成できたので報告する。
Journal
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- Abstract of annual meeting of the Surface Science of Japan
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Abstract of annual meeting of the Surface Science of Japan 36 (0), 132-, 2016
The Japan Society of Vacuum and Surface Science
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1390001205678296576
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- NII Article ID
- 130005175512
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- Text Lang
- ja
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- Data Source
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- JaLC
- CiNii Articles
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- Abstract License Flag
- Disallowed
