クラスターイオンビーム技術の最近の進展

DOI Web Site Web Site 被引用文献3件 参考文献73件
  • 松尾 二郎
    京都大学大学院工学研究科附属量子理工学教育研究センター 科学技術振興機構 戦略的創造研究推進事業
  • 瀬木 利夫
    科学技術振興機構 戦略的創造研究推進事業 京都大学大学院工学研究科原子核工学専攻
  • 青木 学聡
    科学技術振興機構 戦略的創造研究推進事業 京都大学大学院工学研究科電子工学専攻

書誌事項

タイトル別名
  • Recent Progress in Cluster Ion Beam Technology
  • クラスターイオンビーム ギジュツ ノ サイキン ノ シンテン

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抄録

A brief overview for recent progress of cluster ion beams is presented in conjunction with atomistic collision dynamics, cluster size effects and nano-process developments. Unique characteristics of cluster ion beam are utilized not only for nano-processing but also metrology for organic materials. Molecular dynamics study on cluster-solid interactions and size dependence of sputtering with Ar or Cl2 cluster ions reveal that both incident energy and chemical potential energy are effectively transfer to the surface to enhance the sputtering yield. In addition to these, less damage was remained on organic surface bombarded with cluster ions. Organic depth profiling of XPS or SIMS are realized with cluster ion beams.

収録刊行物

  • 表面科学

    表面科学 31 (11), 564-571, 2010

    公益社団法人 日本表面科学会

被引用文献 (3)*注記

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参考文献 (73)*注記

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