書誌事項
- タイトル別名
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- Formation of III-V Compound Semiconductor Nanowires by using Selective-area MOVPE
- MOVPE選択成長法を用いた3-5族化合物半導体ナノワイヤの形成
- MOVPE センタク セイチョウホウ オ モチイタ 3 5ゾク カゴウブツ ハンドウタイ ナノワイヤ ノ ケイセイ
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説明
We report on the growth of III-V compound semiconductor nanowires by selective-area MOVPE. Position-controlled growth of GaAs nanowire, and InP/InAs/InP core-multi shell nanowires are reviewed. The nanowires are oriented to <111>B or <111>A directions and they have hexagonal cross-section surrounded with {1-10} vertical side facets and (111)B or A top surface. Also, we can control the growth direction to axial or radial by changing the growth parameters. InP/InAs/InP core-multi shell nanowires whose well thickness is of several monolayers are fabricated by using this method. We also review on the growth of vertical GaAs nanowires on Si substrate and fabrication of InGaAs nanowire-FETs.
収録刊行物
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- 表面科学
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表面科学 29 (12), 726-730, 2008
公益社団法人 日本表面科学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001206458964608
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- NII論文ID
- 10024407649
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- NII書誌ID
- AN00334149
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- ISSN
- 18814743
- 03885321
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- NDL書誌ID
- 9746507
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles
- KAKEN
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可