書誌事項
- タイトル別名
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- Present and Future of Research on Plasma Processing of Nanomaterials
- ナノ ザイリョウ ノ プラズマプロセシング ノ ケンキュウ ノ ゲンジョウ ト ショウライ
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抄録
This paper reviews production of nanoparticles using low pressure reactive plasmas and its application to quantum dot sensitized solar cells. For the method, nanoparticles of several nm in size with a small size dispersion are produced in gas phase using reactive plasmas, and then the nanoparticles and radicals are co-deposited on a substrate. This method realizes one-step deposition of nanoparticle composite films in a controllable way.
収録刊行物
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- 表面科学
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表面科学 34 (10), 520-527, 2013
公益社団法人 日本表面科学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001206459039104
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- NII論文ID
- 10031202795
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- NII書誌ID
- AN00334149
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- ISSN
- 18814743
- 03885321
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- NDL書誌ID
- 024936948
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可