二次イオン質量分析法における低エネルギーイオン照射下二次イオン放出挙動に関する基礎的検討

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タイトル別名
  • A study on the behavior of secondary ion emission under the low-energy ion irradiation in SIMS measurements.
  • 2次イオン質量分析法における低エネルギーイオン照射下2次イオン放出挙動に関する基礎的検討
  • 2ジ イオン シツリョウ ブンセキホウ ニ オケル テイ エネルギー イオン

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抄録

The sputtering behavior of secondary ion from copper surface against primary ion energy less than 3 keV has been studied. A remarked increase of relative ionization coefficient of sputtered ion was observed. This result suggests the existence of another sputteirng mechanism in a low energy region less than 1 keV. The neutralization and re-ionization of irradiated ion in this energy region may cause the change of ionization efficiency.

収録刊行物

  • 質量分析

    質量分析 35 (5), 226-230, 1987

    一般社団法人 日本質量分析学会

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