５‐ジアゾ‐メルドラム酸を用いた遠紫外線コントラスト・エンハンスト材料

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  • A deep UV contrast enhanced material using 5-diazo-Meldrum's acid.

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説明

A new contrast enhanced lithography (CEL) material for deep UV was developed. The material is made of 5-diazo-Meldrum's acid, a p-cresol formaldehyde novolac resin and diethyleneglycol dimethyl ether. It has a good contrast enhancing effect at 248 nm, and its application to KrF excimer laser lithography seems to be very useful.

収録刊行物

  • 高分子論文集

    高分子論文集 45 (5), 453-455, 1988

    公益社団法人 高分子学会

キーワード

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390001206522679296
  • NII論文ID
    130003837145
  • DOI
    10.1295/koron.45.453
  • ISSN
    18815685
    03862186
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • Crossref
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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