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A Discussion of contact resistance between Vertically Aligned Carbon Nanotubes and Metal Layer by Surface Activated Bonding
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- Fujino Masahisa
- Univ. Tokyo
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- Terasaka Hidenori
- Univ. Tokyo
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- Suga Tadatomo
- Univ. Tokyo
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- Soga Ikuo
- Fujitsu Lab. Ltd.
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- Kondo Daiyu
- Fujitsu Lab. Ltd.
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- Ishizuki Yoshikatsu
- Fujitsu Lab. Ltd.
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- Iwai Taisuke
- Fujitsu Lab. Ltd.
Bibliographic Information
- Other Title
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- 表面活性化接合法における垂直配向カーボンナノチューブと金属薄膜の接触抵抗に関する考察
Description
今回の報告では、著者らが2009年から本学会で発表している表面活性化接合法によって接合したカーボンナノチューブ(CNT)と金属薄膜において、表面活性化処理方法や金属の種類によって異なるCNT-金属薄膜間の接触抵抗に関する考察を行う。ArイオンビームによるCNTへの表面活性化処理によってCNT表面の構造が変化することからフェルミエネルギーも変化するため、接合する金属薄膜(今回はAl, Cu, Au, Tiを使用)によって接続抵抗が大きく異なることを実験と理論計算を交えて報告する。
Journal
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- Proceedings of JIEP Annual Meeting
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Proceedings of JIEP Annual Meeting 27 (0), 143-144, 2013
The Japan Institute of Electronics Packaging
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1390001288049972480
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- NII Article ID
- 130007428933
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- Text Lang
- ja
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- Data Source
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- JaLC
- CiNii Articles
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- Abstract License Flag
- Disallowed