書誌事項
- タイトル別名
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- Development of High-rate Low-temperature Sputtering for Titanium Oxide Film Photocatalyst and Study of Explannation of the Thin Film Formation Model.
- コウソク テイオン スパッタホウ ニ ヨル TiO2 ヒカリ ショクバイ ハクマク ノ セイマク ギジュツ カイハツ ト ハクマク セイチョウ モデル カイメイ ニ カンスル ケンキュウ
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収録刊行物
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- 都城工業高等専門学校研究報告
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都城工業高等専門学校研究報告 45 (0), 19-29, 2011
独立行政法人 国立高等専門学校機構 都城工業高等専門学校
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390002184890313216
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- NII論文ID
- 110008608805
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- NII書誌ID
- AN00235996
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- ISSN
- 0286116X
- 24321036
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- NDL書誌ID
- 11168850
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- CiNii Articles