フェムト秒レーザー支援エッチングにおけるエッチャント加熱の効果

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タイトル別名
  • Heating Effect of Etchant on Femtosecond Laser-Assisted Etching
  • Laser Original フェムト秒レーザー支援エッチングにおけるエッチャント加熱の効果
  • Laser Original フェムトビョウ レーザー シエン エッチング ニ オケル エッチャント カネツ ノ コウカ

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抄録

The irradiation of a focused femtosecond (fs) laser pulse modifi es silica glass to a chemically susceptible state in the vicinity of the focus. Using fs laser modification along a line and successive chemical etching, a microchannel can be fabricated. The present study investigated the dependence of the etching rate on the etching temperature for both modifi ed and un-modifi ed regions. The etching rates in both regions increased with increasing temperature, and the same activation energy of approximately 0.85 eV was determined in both regions. This result implies that high-speed etching can be achieved without loss of selectivity by increasing the etching temperature. Possible advantages and disadvantages of hightemperature etching are discussed.

収録刊行物

  • レーザー研究

    レーザー研究 41 (10), 827-, 2013

    一般社団法人 レーザー学会

参考文献 (16)*注記

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