ミスト CVD 法による HfxZr1-xO2薄膜の作製とその電気的特性

DOI

藤原悠希

京工繊大
田原大祐

京工繊大
西中浩之

京工繊大
吉本昌広

京工繊大
野田実

京工繊大

書誌事項

タイトル別名

HZO thin film grown by mist chemical vapor deposition and evaluation of their electrical characteristics

収録刊行物

応用物理学会学術講演会講演予稿集

応用物理学会学術講演会講演予稿集 2020.1 (0), 1235-1235, 2020-02-28

公益社団法人応用物理学会

キーワード

詳細情報詳細情報について

CRID

1390010765206242816
DOI

10.11470/jsapmeeting.2020.1.0_1235
ISSN

24367613
本文言語コード

ja
データソース種別
- JaLC

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