酸素分圧変化によるHfO<sub>2</sub>:Y/Si薄膜の配向と結晶構造の制御
書誌事項
- タイトル別名
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- Control of the preferential orientation and the crystal structure of HfO<sub>2</sub>:Y/Si films by change in oxygen partial pressure
収録刊行物
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- 応用物理学会学術講演会講演予稿集
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応用物理学会学術講演会講演予稿集 2019.2 (0), 1368-1368, 2019-09-04
公益社団法人 応用物理学会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390011340284162560
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- ISSN
- 24367613
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC