1050℃熱処理において生成したシリコン窒化膜の常磁性欠陥（Ⅱ）
書誌事項
- タイトル別名
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- Paramagnetic point defects in silicon nitride films annealed at 1050℃(Ⅱ)
収録刊行物
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- 応用物理学会学術講演会講演予稿集
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応用物理学会学術講演会講演予稿集 2018.2 (0), 2837-2837, 2018-09-05
公益社団法人 応用物理学会