窒化物半導体デバイスに向けた表面波プラズマ励起化学気相堆積法によるシリコン系絶縁膜の検討
書誌事項
- タイトル別名
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- Investigation of silicon-based insulator films by surface-wave plasma enhanced chemical vapor deposition for nitride semiconductor device
収録刊行物
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- 応用物理学会学術講演会講演予稿集
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応用物理学会学術講演会講演予稿集 2018.2 (0), 3011-3011, 2018-09-05
公益社団法人 応用物理学会