Fe源としてトリス(2,4-ペンタンジオナト)鉄(III)を用いたMOCVD法によるFeドープNiO薄膜の作製
書誌事項
- タイトル別名
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- MOCVD deposition of Fe-doped NiO films using Tris(2,4-pentanedionato)iron(Ⅲ) as Fe source
収録刊行物
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- 応用物理学会学術講演会講演予稿集
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応用物理学会学術講演会講演予稿集 2017.1 (0), 3943-3943, 2017-03-01
公益社団法人 応用物理学会