常圧MOCVD法によるCuO薄膜の作製

DOI

藤原一樹

芝浦工大
寺村瑞樹

芝浦工大
田口健太朗

芝浦工大
谷口凱

芝浦工大
石川博康

芝浦工大 SIT GI研究センター

書誌事項

タイトル別名

AP-MOCVD deposition of CuO thin films

収録刊行物

応用物理学会学術講演会講演予稿集

応用物理学会学術講演会講演予稿集 2015.2 (0), 3564-3564, 2015-08-31

公益社団法人応用物理学会

キーワード

詳細情報詳細情報について

CRID

1390014348396459904
DOI

10.11470/jsapmeeting.2015.2.0_3564
ISSN

24367613
本文言語コード

ja
データソース種別
- JaLC

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