L特性X線を用いたタンタルおよびタングステン化合物の状態分析法の検討

上原 康, 河瀬 和雅

doi:10.57415/xshinpo.38.0_99

書誌事項

タイトル別名

Chemical State Analysis of Tantalum and Tungsten Compounds Based on L Emission

説明

<p>タンタルおよびタングステン化合物に関し，数十nm以上の厚みを有する薄膜の解析に有力なL吸収端吸収スペクトルおよびL系列蛍光X線を用いた化学結合状態解析の可能性について検討した．両元素共に，L₁吸収端の蛍光XANESはL₃吸収端のそれに比べて化合物の違いに敏感で，酸化物，炭化物，窒化物などが区別できることを示した．L₁吸収端近傍で励起したときに得られる蛍光X線スペクトルにおいて，酸化タンタルのみコンプトン散乱が極めて弱いこと，タングステン化合物ではLγ₂/Lγ₃強度比に有意差があることなどを明らかにし，蛍光X線による化合物状態解析の可能性を示した．</p>

収録刊行物

Ｘ線分析の進歩

Ｘ線分析の進歩 38 (0), 99-108, 2007-03-31

公益社団法人日本分析化学会　X線分析研究懇談会

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詳細情報詳細情報について

CRID: 1390020784676106624

DOI: 10.57415/xshinpo.38.0_99

ISSN: 27583651; 09117806

本文言語コード: ja

データソース種別

JaLC

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