書誌事項
- タイトル別名
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- Development of the Annular Sputter Ion Pump and its Pumping Characteristics
- エンカン ハイチガタ スパッタイオンポンプ ノ カイハツ
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説明
A sputter ion pump with the pumping cells assembled in an annular configuration is developed. The pump is characterized by following factors; 1) minimized residual magnetic field intensity at the center of annular configuration about 80 A/m, 2) high effective pumping speed larger than 0.03 m3/s and 3) low ultimate pressure about 4 × 10-9 Pa. The design is suited for pumping the electron beam equipment such as scanning electron microscope, etc.
収録刊行物
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- 真空
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真空 47 (3), 255-257, 2004
一般社団法人 日本真空学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282679039971072
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- NII論文ID
- 10012867272
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- NII書誌ID
- AN00119871
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- ISSN
- 18809413
- 05598516
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- NDL書誌ID
- 6930161
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDLサーチ
- Crossref
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可
