特集プラズマプロセス　ＩＩＩ　　直流放電を用いた気相成長法によるダイヤモンド薄膜の作製と評価

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  • Growth and characterization of diamond thin films by DC plasma CVD.
  • チョクリュウ ホウデン オ モチイタ キソウ セイチョウホウ ニ ヨル ダイヤ

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収録刊行物

  • 真空

    真空 31 (6), 637-643, 1988

    一般社団法人 日本真空学会

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