スパッター法および蒸着法により作製されたLaNi<SUB>5</SUB>薄膜の性質

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タイトル別名
  • Characterization of LaNi<SUB>5</SUB>, Thin Films Prepared by Sputtering and Evaporating Methods
  • スパッター法および蒸着法により作製されたLaNi5薄膜の性質
  • スパッタ -ホウ オヨビ ジョウチャクホウ ニ ヨリ サクセイサレタ LaNi
  • Thin films-preparation, structure and properties. Characterization of LaNi5 thin films prepared by sputtering and evaporating methods.

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抄録

スパッター法により作製されたアモルファスLaNi5薄膜のキャラクタリゼーションを行なった。また,水素吸蔵特性についても調べ,その結果を蒸着膜の場合と比較した。<BR>スパッター膜の密度は約69・cm-3であり蒸着膜より大きく,パルクより小さいことがわかった。熱伝導率は,膜試料においては約2W・m-1・K-1であり。塊状試料より大きいことが示された。<BR>種々の基板上に形成されたLaNi5スパッター膜について,水素吸収一放出サイクルに対する耐久性,ならびに基板との密着性を調べた。その結果Ni基板上のLaNi5膜は耐久性が大きく,かつ基板との密着性に優れていることがわかった。これは基板と膜の熱膨張率の差が小さいためと考えられる。<BR>スパッター膜に吸収される水素量は,膜厚1.3μmのものでLaNi51式量あたり約2.4個でありバルク試料の半分以下であった。また,蒸着膜より吸収水素量が大きかったのは,スパッター膜がやや結晶性を帯びているためと思われる。膜中の水素濃度の水素圧力依存性を調べたところ,水素濃度は圧力の増加とともに単調に増大し,バルク試料において見られるような圧力プラトーが現われないことがわかった。

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