書誌事項
- タイトル別名
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- Technological History of Silicon Dry Etching Process
- シリコンドライエッチング ギジュツ ノ ハッテンシ
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抄録
Dry etching process is one of the key technologies for manufacturing state-of-the-art devices both in LSI and MEMS fields. The importance of the process will be expanded in the future. In this paper, the technological history of silicon dry etching process has been reviewed from the viewpoint of demands and technical approach. The main demands, high through put, high etching anisotropy, high controllability are universal up to present date. The prospect for future trend is also exhibited.
収録刊行物
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- 電気学会論文誌Ｅ（センサ・マイクロマシン部門誌）
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電気学会論文誌Ｅ（センサ・マイクロマシン部門誌） 131 (1), 14-18, 2011
一般社団法人 電気学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282679439055744
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- NII論文ID
- 10027637393
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- NII書誌ID
- AN1052634X
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- ISSN
- 13475525
- 13418939
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- NDL書誌ID
- 10934898
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可