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- 年吉 洋
- 東京大学 先端科学技術研究センター
書誌事項
- タイトル別名
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- Silicon Oxide Sacrificial Etching Technology
- シリコン サンカ マク ギセイソウ エッチング ギジュツ
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抄録
Sacrificial etching is a substantial step in MEMS or micromachining process, by which patterned thin films are partially released from the substrate surface to make mechanically movable micro structures. Amongst the variations of structural and sacrificial layer combinations including metal-over-polyimide and metal-over-polysilicon, we discuss the most fundamental processing technique of silicon oxide sacrificial release for the surface- and bulk-silicon micromachining, along with a toolbox to prevent the surface stiction problems.
収録刊行物
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- 電気学会論文誌Ｅ（センサ・マイクロマシン部門誌）
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電気学会論文誌Ｅ（センサ・マイクロマシン部門誌） 131 (1), 8-13, 2011
一般社団法人 電気学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282679439076864
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- NII論文ID
- 10027637357
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- NII書誌ID
- AN1052634X
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- ISSN
- 13475525
- 13418939
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- NDL書誌ID
- 10934890
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可