書誌事項
- タイトル別名
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- Coercivity Enhancement by Roughening a Substrate Surface
- キバン ノ ソメンカ ショリ ニ ヨル ジヘキ コウジリョク ノ セイギョ
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説明
基板の粗面化処理に伴う磁壁抗磁力増加について調べた。CF_4ガスを用いてガラス基板をプラズマエッチングにより、粗面化処理を施した結果、エッチングガス圧を1.7mTorrにすることで、応力の波長を磁壁の幅と同程度である約14nmとすることができ、その結果、基板の面粗さがR_a=0.62nmという僅かなものでありながら、2kOe以上の磁壁移動に対する抗磁力の増加が実現できた。この技術は、今後さらに高密度化を目指して微小な磁区を記録したときに発生するであろう、『熱揺らぎに基づく磁区の収縮』に対しても有効な改善策と考えられる。
収録刊行物
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- 映像情報メディア学会技術報告
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映像情報メディア学会技術報告 24.22 (0), 1-6, 2000
一般社団法人 映像情報メディア学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282679500114432
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- NII論文ID
- 110003687716
- 110003225692
- 10019056045
- 110003186482
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- NII書誌ID
- AN1059086X
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- ISSN
- 09135685
- 24241970
- 13426893
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可
