Hexagonal facet laser grown by selective area epitaxy
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- ANDO Seigo
- NTT Basic Research Laboratories
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- KOBAYASHI Naoki
- NTT Basic Research Laboratories
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- ANDO Hiroaki
- NTT Basic Research Laboratories
Bibliographic Information
- Other Title
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- 選択成長法により形成した六角柱ファセットレーザー
Description
GaAs (111) B 基板上で,有機金属気相成長法による選択成長を用いると,側面が(110)面で構成されたGaAs/AlGaAsの六角柱構造を成長できる.この (110) 面は,基板に垂直で原子レベルの平坦性を持つため,これを光の反射器として利用した六角柱ファセットレーザーを製作した.この六角形のリング共振器型レーザーは,光の閉じ込めが強いという特徴を持ち,低しきい値でシングルモード発振する.さらにレーザー光を有効に取り出すため,六角柱の角に矩形の光導波路を結合した構造のレーザーを検討し,レーザー光を導波路先端から取り出すことに成功した.これらのレーザー構造を選択成長により作製する際には,成長用原料を交互に供給する成長法が有効である.
Journal
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- Oyo Buturi
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Oyo Buturi 65 (7), 728-731, 1996
The Japan Society of Applied Physics
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Keywords
Details 詳細情報について
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- CRID
- 1390282679572565760
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- NII Article ID
- 130003593604
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- COI
- 1:CAS:528:DyaK28Xks12itbk%3D
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- ISSN
- 21882290
- 03698009
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- Data Source
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- JaLC
- CiNii Articles
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- Abstract License Flag
- Disallowed