Development of photoelectron spectroholography

DOI
  • NIHEI Yoshimasa
    Faculty of Science and Technology, the Science University of Tokyo
  • OWARI Masanori
    Institute of Industrial Science, the University of Tokyo Environmental Science Center, the University of Tokyo
  • ISHII Hideshi
    Institute of Industrial Science, the University of Tokyo
  • OMORI Shinji
    Lithography Technology Department, LSI Technology Development Division, Sony Corporation Semiconductor Network Company
  • SHIRAKI Susumu
    Surface Chemistry Lab., RIKEN

Bibliographic Information

Other Title
  • 光電子スペクトロホログラフィー法の開発
  • For investigating 3D atomic images of solid surfaces
  • 固体表面の三次元原子配列を観るために

Description

固体表面ならびに界面の構造と状態を解析するために,光電子回折と光電子ホログララフィーを併用した新しい方法論の確立をめざして,測定装置と解析アルゴリズムを開発した.エネルギーの異なる複数光源を組み合わせる方法を光電子スペクトロホログラフィーと名づけている.本装置の特徴は,複数励起光源,高性能角度分解電子分光器,高エネルギー光電子測定などの機能を合わせて実現したことにある.また,新しいアルゴリズムである差分・微分光電子ホログラフィーは比較的容易に正確な原子像を与えることがわかった.

Journal

  • Oyo Buturi

    Oyo Buturi 71 (4), 401-407, 2002

    The Japan Society of Applied Physics

Keywords

Details 詳細情報について

  • CRID
    1390282679573128960
  • NII Article ID
    130003594512
  • DOI
    10.11470/oubutsu1932.71.401
  • COI
    1:CAS:528:DC%2BD38Xjs1alsrg%3D
  • ISSN
    21882290
    03698009
  • Data Source
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • Abstract License Flag
    Disallowed

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