ヘテロエピタキシャル膜のひずみ測定
書誌事項
- タイトル別名
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- Measurement of Strains in Heteroepitaxial Films
抄録
ヘテロエピタキシャル膜の多くは,“単結晶”であるとはいえ,“不完全結晶”である.X線二結晶法による測定から,格子定数のぱらつき(格子定数分布)は小さいが,結晶粒の方位のばらつき(方位分布)が大きい(数外程度)ことがわかる.すなわち,膜はモザイク結晶になっていると思われる.したがって,このような膜の格子ひずみをX線回折法により測定する場合,ωモード(結晶回転角測定)よりも,2θ/θモードのような回折角測定を行ったほうが,精度がよい.膜の結晶学的諄価と,ひずみ測定法について述べる.
収録刊行物
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- 応用物理
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応用物理 57 (3), 353-358, 1988
公益社団法人 応用物理学会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282679573522560
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- NII論文ID
- 130003592172
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- COI
- 1:CAS:528:DyaL1cXmsVSrt7c%3D
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- ISSN
- 21882290
- 03698009
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可