A New Detection Method of Point Defects in Silicon Dioxide Thin Films
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- Ohki Yoshimichi
- Waseda University
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- Ishii Keisuke
- Waseda University
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- Seol Kwang Soo
- Waseda University
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- Nishikawa Hiroyuki
- Tokyo Metropolitan University
Bibliographic Information
- Other Title
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- シリコン酸化膜中の点欠陥の新しい検出法
- シリコン サンカ マク チュウ ノ テン ケッカン ノ アタラシイ ケンシュツ
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Journal
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- IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials
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IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials 116 (5), 387-391, 1996
The Institute of Electrical Engineers of Japan
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1390282679576412416
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- NII Article ID
- 10002819415
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- NII Book ID
- AN10136312
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- ISSN
- 13475533
- 03854205
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- NDL BIB ID
- 3954345
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- Data Source
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- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles