ジュール加熱パルスレーザー堆積法によるGaドープZnO透明導電膜の開発

  • 奈良崎 愛子
    産業技術総合研究所 光技術研究部門( 〒305-8565 茨城県つくば市東1-1-1 中央第5)
  • 新納 弘之
    産業技術総合研究所 光技術研究部門( 〒305-8565 茨城県つくば市東1-1-1 中央第5)

書誌事項

タイトル別名
  • Development of Ga-Doped Transparent Conducting Zinc Oxide Films by Joule-Heating Pulsed Laser Deposition
  • Laser Original ジュール加熱パルスレーザー堆積法によるGaドープZnO透明導電膜の開発
  • Laser Original ジュール カネツ パルスレーザー タイセキホウ ニ ヨル Ga ドープ ZnO トウメイ ドウデン マク ノ カイハツ

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抄録

Ga-doped zinc oxide films were prepared by a novel Joule-heating pulsed laser deposition (PLD)

収録刊行物

  • レーザー研究

    レーザー研究 39 (3), 197-202, 2011

    一般社団法人 レーザー学会

参考文献 (26)*注記

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