NbドープTiO<sub>2</sub>薄膜の熱拡散率に対するNb添加効果

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タイトル別名
  • Effect of Nb Concentration on Thermal Diffusivity of Nb-Doped TiO<sub>2</sub> Films
  • NbドープTiO2薄膜の熱拡散率に対するNb添加効果
  • Nb ドープ TiO2 ハクマク ノ ネツ カクサンリツ ニ タイスル Nb テンカ コウカ
  • Effect of Nb Concentration on Thermal Diffusivity of Nb-Doped TiO2 Films

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抄録

DCマグネトロンスパッタ法により，TiO2-xおよびNb:TiO2-x還元ターゲット(Nb含有量:3.7，9.5at.%)を用いて，Mo/TiO2/MoおよびMo/Nb:TiO2/Mo3層膜を作製し，TiO2およびNb:TiO2の熱拡散率を導出した．なおTiO2層およびNb:TiO2層は基板温度を110°Cの条件での300nm厚さに成膜し，成膜後600°Cで焼成を行った．熱拡散率解析は裏面加熱/表面測温型ナノ秒サーモリフレクタンス熱物性解析装置を用いた．得られたTiO2およびNb:TiO2の熱拡散率は、膜中のNb含有量が増加するに従い2.1×10-6m2s-1から1.2×10-6m2s-1まで減少した．熱拡散率減少のメカニズムはTiより質量の大きいNb原子の増加によりフォノン散乱の確率が増加し、平均自由行程が減少したためであると考えられる．

収録刊行物

  • 熱物性

    熱物性 25 (3), 117-120, 2014

    日本熱物性学会

被引用文献 (2)*注記

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参考文献 (19)*注記

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