走査型トンネル顕微鏡および分子動力学法によるグラファイトの原子レベル材料除去機構の考察

書誌事項

タイトル別名
  • Atomic-level Material Removal Mechanism of Graphite Studied by STM and MD.
  • ソウサガタ トンネル ケンビキョウ オヨビ ブンシ ドウリキガクホウ ニ ヨル
公開日
1998
DOI
  • 10.2493/jjspe.64.1653
公開者
公益社団法人 精密工学会

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説明

Atomic-level material removal process of HOPG (Highly Oriented Pyrolytic Graphite) is analyzed by STM (Scanning unneling Microscope) and MD (Molecular Dynamic) simulation. By using STM tip scanning system, the material removal such as indentation and scratching is carried out in atomic scale. This deformation process is also analyzed by MD computer simulation. The trace on several nanometers generated by STM tip machining is observed, but undeformed region which shows typical atomic arrangement of graphite is recognized near from the deformation region. Good consistency between experiment and calculation can be found.

収録刊行物

  • 精密工学会誌

    精密工学会誌 64 (11), 1653-1657, 1998

    公益社団法人 精密工学会

被引用文献 (2)*注記

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参考文献 (9)*注記

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